真空泵相片,真空泵照片

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于真空泵相片的问题，于是小编就整理了1个相关介绍真空泵相片的解答，让我们一起看看吧。中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？中国芯片最...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于真空泵相片的问题，于是小编就整理了1个相关介绍真空泵相片的解答，让我们一起看看吧。

1. 中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？

中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？

光刻机应该不是中国芯片的最大痛点。分明是含有美国技术的代工嘛。据报道，国内现有代工厂无一不是这样，都不能让华为芯片设计在自己那里变为产品。

自主研发国产光刻机分明有啊。上海微电子早就可以实现90nm光刻机的生产。倒是像军民用飞机的航空发动机一样，光刻机虽然有，我国是世界上极少数拥有的国家之一，已经了不起，却与全球顶级有着很大的差距，痛是痛着，但不是最大的痛，因为不像国内代工厂们，自己不仅为技术水平是低端的而痛着，更由于被美国管制得死死的即“形有却实无”而痛着，还让本是芯片设计技术为世界先进的同一国兄弟企业为孤立无援而心痛着。

据报道上海微电子将在2021或2022年推出28nm光刻机。也有人说不叫28nm光刻机，而是193nm浸入式光刻机，193nm是光源波长，极限工艺是7nm。反正将是又进一步，并且，荷兰ASML是集全世界之力搞出全球顶级的，我国则是在被封锁相关技术的情况下单独搞出来的，而拥有了低端的就会拥有高端的，最重要的是走上了自主研发的道路，这分外珍贵，也大有前途。

国产顶级光刻机制造的最大难点在于国内还制造不出顶级零件。顶级光刻机必须通过整合那些相关顶级技术和零件才能实现是已知的，这是ASML的既有模式和成功经验。整合应该是相对容易的，然而，我国的镜头、光源、材料等等配套企业在技术水平上却还不是世界顶级的，这是光刻机这个痛点持续存在的根本因素。

一国单独造出顶级光刻机还没有先例。世界顶级的光刻机技术和零件配套企业都是谁是已知的，却又知道不会给我国提供配套，我国只能单打独斗，这也就表明我国注定是发展慢于ASML的，尽管技术都是什么、复杂在哪里也是已知的，国内配套企业就是难以很快提升技术水平，同时，显然表明达到高端只是个时间问题，这符合科技研发的普遍规律。这一切都跟我国的航空发动机特别像。早就听说ASML讲过即使我国企业拿到图纸也造不出顶级光刻机，此话肯定太离谱了，我国的上海微电子及其配套企业一定会堵住ASML的嘴。

已有的光刻机特别是将有的技术更进一步光刻机应该就能让华为摆脱美国切断国内外代工渠道所致的困境。如果连中芯国际都代工不上华为芯片，华为大不了自己购买和使用上海微电子最新推出的光刻机，实现自己设计、自己制造，虽然只能暂时生产出中低端芯片，却也是有路可走，立马打破了美国***的阻遏。

回答完毕，感谢题主！

感谢您的阅读！

（图片来源网络，侵删）

【中国芯片制造不可忽略的痛点，真的是光刻机吗？为何光刻机这么难制造】

芯片问题确实一直困扰着我们，这种困扰导致了我们目前在芯片中很多方面都会受到西方国家的一些钳制。而在这里面有一个非常重要的内容就是光刻机，在我看来，它是我国芯片制造中不可忽略的重点，也是我们可能影响最大的痛点。

为何我国光刻机的发展步伐如此之缓慢？并不是因为我们光刻机没有发展。我们知道目前我国的上海微电子，已经能够生产90纳米工艺的光刻机，当然和世界先进的荷兰的ASML的7nm EUV工艺光刻机还存在一定的距离。

当然我们国家在芯片制造中，因为中芯国际的存在缓解了我们这种无奈。我们要知道中芯国际目前最新的N＋1，N＋2等等技术，已经非常接近台积电7nm工艺。华为因为美国的压力，如果要给华为进行芯片代工，必须要获得美国的同意，因此华为未来可能会依靠的是中芯国际。

上海微电子实际上，宣布2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。如果多轮曝光，还可以达到14nm！这样的消息对我们来说确实是好消息，但是在这个消息的背后，我们也看到了荷兰ASML的进步，毕竟他们已经向着更深的层次的光刻机进行发展。

我国光刻机领域为何如此大的限制？最主要的因素在于：西方国家对于我国在技术方面的一些限制，特别是瓦纳森协议，这个协议其中有一个最重要的内容，就是光刻机技术向我们进行禁止输出，可以说这种限制，对我们来说确实产生了非常大的影响，以至于目前我们的光刻机技术，在发展中受到了很大的困扰。

我们如何实现光刻机的弯道超车？一方面我们要不断提升我国在光刻机技术领域的芯片技术发展；另外一个方面最重要的是，我们也需要走出一条和ASML光刻机不同的路，这才能真正的实现弯道超车。

到此，以上就是小编对于真空泵相片的问题就介绍到这了，希望介绍关于真空泵相片的1点解答对大家有用。