聚焦离子束为什么抽真空,聚焦离子束为什么抽真空了

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于聚焦离子束为什么抽真空的问题，于是小编就整理了4个相关介绍聚焦离子束为什么抽真空的解答，让我们一起看看吧。离子束加工跟等离子体加...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于聚焦离子束为什么抽真空的问题，于是小编就整理了4个相关介绍聚焦离子束为什么抽真空的解答，让我们一起看看吧。

1. 离子束加工跟等离子体加工的原理有何不同？
2. 真空镀膜原理？
3. 真空镀膜原理是什么？
4. 真空电镀原理？

离子束加工跟等离子体加工的原理有何不同？

1、离子束加工的基本原理

　　所谓离子束抛光，就是把惰性气体氩、氮等放在真空瓶中，用高频电磁振荡或放电 等方法对阴极电流加热，使之电离成为正离子，再用 5 千至 10 万伏高电压对这些正离 子加速，使它们具有一定的能量。利用电子透镜聚焦，将它们聚焦成一细束,形成高能 量密度离子流， 在计算机的控制下轰击放在真空室经过精磨的工件表面，从其表面把工 件物质一个原子一个原子地溅射掉。用这种方法对工件表面进行深度从 100 埃到 10 微 米左右的精密加工。

　　2、等离子体加工的基本原理

　　等离子体加工又称为等离子弧加工，是利用电弧放电使气体电离成过热的等离子气 体流束，靠局部熔化及气体去除材料的。等离子体又被成为物质的第四种状态。 等离子体是高温电离的气体，它由气体原子或分子在高温下获得能量电离之后，理 解成带正电荷的离子和带负电荷的自由电子，整体的正负离子数目和正负电荷仍相等， 因此称为等离子体，具有极高的能量密度。

真空镀膜原理？

真空镀膜是利用真空环境下的物理或化学过程，在材料表面上形成一层膜的技术。其主要原理包括蒸发、离子镀、溅射等。
1. 蒸发镀膜：将需要镀膜的材料放入真空腔体中，加热材料至其熔点以上，使其蒸发成膜，然后在基材上形成一层薄膜。
2. 离子镀膜：将金属材料放置在真空腔体中，通过高电压的离子轰击金属材料，使其表面原子脱离并沉积在基材表面，形成一层薄膜。
3. 溅射镀膜：在真空环境下，通过离子束轰击固体靶材，使其表面原子释放出来，然后被沉积在基材表面，形成一层薄膜。
这些原理都是在真空环境下进行的，通过控制材料蒸发、离子轰击或溅射等过程，可以控制膜层的成分、厚度和结构，从而达到不同的功能要求。真空镀膜广泛应用于光学、电子、光电子、材料等领域。

真空镀膜原理是什么？

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

真空镀膜原理：

1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

真空电镀原理？

真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态***入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是***用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀。

真空离子镀，又称真空镀膜。真空电镀的做法是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高。而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，为各行业广泛***用。

到此，以上就是小编对于聚焦离子束为什么抽真空的问题就介绍到这了，希望介绍关于聚焦离子束为什么抽真空的4点解答对大家有用。