磁控溅射真空要抽到多少,磁控溅射真空要抽到多少度

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于磁控溅射真空要抽到多少的问题，于是小编就整理了3个相关介绍磁控溅射真空要抽到多少的解答，让我们一起看看吧。为什么磁控溅射要抽真空...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于磁控溅射真空要抽到多少的问题，于是小编就整理了3个相关介绍磁控溅射真空要抽到多少的解答，让我们一起看看吧。

1. 为什么磁控溅射要抽真空？
2. 请问PVD磁控溅射真空镀膜需要注意哪些事项呢？
3. 磁控溅射对靶材的要求是什么？

为什么磁控溅射要抽真空？

溅射过程是通过电能，使气体的离子（可以理解为为气体颗粒）轰击靶材（一般是金属溅射物），就像砖头砸土墙，土墙的部分原子溅射出来，落在所要镀膜的基体上的过程。

如果气体太多，气体离子在运行到靶材的过程中，很容易跟路程中的其他气体离子或分子碰撞，这样就不能加速，也溅射不出靶材原子来。所以需要真空状态。

而如果气体太少，气体分子不能成为离子，没有很多可以轰击靶材，所以也不行。

只能选择中间值，有足够的气体离子可以轰击靶材，而在轰击过程中，不至于因为气体太多而相互碰撞致使失去太多的能量的气体量。

请问PVD磁控溅射真空镀膜需要注意哪些事项呢？

PVD的全称是物理气象沉积,即英文（Phisical Vapor Deposition)的简写形式。目前PVD主要有蒸发镀膜，磁控溅射镀膜，多弧离子镀膜，化学气相沉积等形式。PVD总的来说属于绿色环保产业，和其他行业相比，对人体有害很小，但不是没有。当然，也完全可以有效减少，甚至完全消除。

1）噪音污染：如特别是一些大的镀膜设备，机械真空泵噪音很大，可以把泵隔离在墙外；

2）光污染：离子镀膜过程中，气体电离发出强光，不宜透过观察窗久看；

3）金属污染：镀膜材料有些（如铬、铟、铝）是对人体有害的，特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染；

4）辐射：有些镀膜要用到射频电源，如功率大，需做好屏蔽处理。另外，欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射。

磁控溅射对靶材的要求是什么？

首先谈谈膜厚与哪些参数相关：

镀膜时间最相关（其他参数不变),镀膜时间越长肯定越厚。

其次，功率大小，气体流量大小，样品和靶材之间的间距大小都有关系。

控制膜厚，首先要能测量膜厚，金属薄膜的话，XRF比较方便，但是要参照标准品建立程序（程序是依照标准样片建立的，标准片越准，你的测量值会越准确）。 金属氧化物薄膜，椭偏仪。不确认材料又比较厚的，台阶仪。AFM可以测量比较薄的薄膜。

膜厚测量应该可以写一本书。。。简单描述下。

到此，以上就是小编对于磁控溅射真空要抽到多少的问题就介绍到这了，希望介绍关于磁控溅射真空要抽到多少的3点解答对大家有用。